檢索結果:共1筆資料 檢索策略: "郭永麟".ccommittee (精準) and ckeyword.raw="基於繞射的對準誤差量測"
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積體電路的飛速發展有賴於其中的關鍵製程微影技術不斷提高的工藝水平,而對準誤差(Overlay)作爲微影製程的重要指標因素,成爲需要不斷精進的控制對象,同時也需要做到愈發追求極緻的精準量測。目前,基於…